当会では、デザインの振興にとっても知的財産権の保護がますます重要であると考え、この4月に改正、施行された改正意匠法と、その審査運用について、特許庁の講師を招いて説明会を開催することにいたしました。
特にグッドデザイン賞に応募いただく方で知的財産に関連するご担当者は、ご参加いただき改正内容をご理解していただくようお願いします。
今回の改正意匠法の主要改正項目
・意匠権の存続期間の延長
・画面デザインの保護の拡充
・意匠の類似の範囲の明確化
・部分意匠等の保護の拡充
・関連意匠の保護の拡充
・秘密意匠の保護の見直し
| 日 時: | 【第一回】2007年6月28日(木)15:00〜17:30 【第二回】2007年7月 9日(月)15:00〜17:30 *2日間の内容は同一です。 |
| 会 場: | 東京ミッドタウン ミッドタウン・タワー 5階 インターナショナル・デザイン・リエゾンセンター(アクセス方法) |
| 対 象: | グッドデザイン賞応募企業をメントとした企業内知的財産ご担当者 |
| 定 員: | 50名(各日) |
| 参加費: | 無料 |
| 講 師: | 特許庁意匠審査長(予定) |
| 申込方法: | 申込方法:参加企業名/部署・役職/氏名/電話番号と お越しになる日程を記入の上、 <info@g-mark.org>へご連絡ください。 メール件名は「改正意匠法に関する説明会申込」として下さい。 |
| 主 催: | 財団法人日本産業デザイン振興会 |
| 協 力: | 特許庁審査業務部意匠課 |
| *特許庁が開催する全国の説明会はこちらをご参照ください。 *説明会で使用するテキストは当日が配布いたしますが、特許庁のサイトにも掲載されています。 | |